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      抛光粉的种类及抛光效果分析

       

      抛光粉的种类及抛光效果分析
      133 0563 1332
       
      一.抛光粉的总类:
      抛光粉通常由氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化铈等组份组成,不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化锆的莫氏硬度为9,氧化铈和氧化硅为7,氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高,硬度也相当,因此广泛用于玻璃的抛光。
      为了增加氧化铈的抛光速度,通常在氧化铈抛光粉加入氟以增加磨削率。铈含量?#31995;?#30340;混合稀土抛光粉通常掺有3-8的氟;纯氧化铈抛光粉通常不掺氟。
      对ZF或F系列的玻璃?#27492;擔?#22240;为本身硬度较小,而且材料本身的氟含量较高,因此因选用不含氟的抛光粉为好。
       
      二.对抛光粉的基本要求:
      (1)微粉粒度均匀一致,在允许的范围之内;
      (2)有较高的纯度,不含机械杂质;
      (3)有良好的分散性,以保证加工过程的均匀,可适量添加分散剂提高悬浮率;
      (4)粉末颗粒有一定的晶格形态,破碎时形成锐利的棱角,以提高抛光效率;
      (5)有合适的硬度和密度,和水有很好的浸润性和悬浮性,因为抛光粉需要与水混合
       
      粒度越大的抛光粉,磨削力越大,越适合于较硬的材料,要注意的是,所
      有的抛光粉的颗粒度都有一个分布问题,平均粒径或中位径D50的大小只决定了抛光速度的快慢,而最大粒径Dmax决定了抛光精度的高低。因此,要得到高精度要求,必须控制抛光粉的最大颗粒。
       
         抛光粉的真实硬度与材料有关,如氧化铝的硬度就是莫氏硬度9左右,各种氧化铝都差不多。但不同的氧化铝给人感觉硬度不同。由于烧成温度不同,团聚体的强度也不一样,因此使用时会有硬度不一样的感觉,产品表现出来的磨削率和耐磨性都会不一样。这个需要有经验?#32435;?#20135;工厂根据抛不同物质去控制。
       
       抛光过程中浆料的浓度决定了抛光速度,浓度越大抛光速度越高。使用小颗粒抛光粉?#20445;?#27974;料浓度因适当调低以得到合适的流动性,?#35805;?#24314;议在7-10%
       
      三.抛光模的选择
      抛光模应该用软一点的。应该指出的是,很多聚氨酯抛光片中添加了氧化铈抛光粉。这些抛光粉的最大颗粒度同样决定了最终的抛光精度。?#35805;?#20351;用不加抛光粉的抛光模。
       
      ?#27169;?#24433;响抛光粉性能的指标
      1、粉体的粒度大小:颗粒的大小及均匀度决定了抛光速度和精度,过筛?#32435;?#32593;目数能掌握粉体相对的粒度的值,平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。
      2、粉体莫氏硬度:硬度相?#28304;?#30340;粉体具有较快的切削效果,同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果;不同的应用领域会有很大出入,包括自身加工工艺。
      3、粉体悬浮性:好的抛光粉要有较好的悬浮性,粉体的形状?#22303;?#24230;大小对悬浮性能具有一定的影响,片形及粒度?#24863;?#30340;抛光粉的悬浮性相对的要好一些,但不是决对的。抛光粉悬浮性能的提高也可通过?#26377;?#28014;液(剂)来?#32435;啤?/span>
       
      4、粉体的晶型:粉体的晶型是团聚在一起的单晶颗粒,决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离(破碎),使其切削性、耐磨性逐渐下降,不规则的六边形晶?#28034;?#31890;具有良好的切削性、耐磨性?#22303;?#21160;性。
       
      五.抛光范围细分:
      作为精细抛光材料,目前市场上用量最大的几类抛光粉主要是氧化铝抛光粉,氧化铈抛光粉,氧化硅抛光粉等。
       
      1.氧化铝抛光粉:
      氧化铝抛光粉(VK-L300F)?#35805;?#29992;于大理石石材抛光,金属铝材抛光,金属不锈钢抛光,金相(?#24378;?#21147;板)抛光,PCB印?#39057;?#36335;板抛光,油漆抛光,树脂抛光,玉石抛光,颗粒大小根据要求?#35805;?#20998;布在0.2-0.5um之间。
       
         2. 二氧化硅抛光粉:
      ?#35805;?#29992;于人工晶体,宝石抛光,或者金属制品精抛后修复其少量的瑕疵。其粒径?#35805;?#20998;布在0.3-1um
       
         3. 氧化铈抛光粉或者抛光液(VK-Ce02W):
      用于?#20302;貳?#30005;视显像管、眼镜片、晶?#29627;?#20809;学元件、光纤、艺术玻璃、电子玻璃、平板玻璃等的抛光。一次粒径?#35805;?#35201;求在20-30nm,二次粒径?#35805;?#35201;求0.2um。
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